VESINIKLUORHAPE/HF
ESITATUD SPETSIFIKATSIOONID
läbipaistvusvedelik Puhtus ≥ 35%-55%
EVERBRIGHT® pakub ka kohandatud:
sisu / valgesus / osakeste suurus / PH väärtus / värv / pakendi stiil / pakendi spetsifikatsioonid
ja muud konkreetsed tooted, mis sobivad teie kasutustingimustega paremini, ning pakuvad tasuta näidiseid.
TOOTE ANDMED
Gaasiline vesinikfluoriid lahustub vees ja selle vesilahust nimetataksevesinikfluoriidhape.Toode on sageli 35–50% gaasilise vesinikfluoriidi vesilahus, kõrgeim kontsentratsioon võib ulatuda 75% -ni ning see on värvitu ja selitatud suitsetamisvedelik.Terav lõhn, lenduv, valge suits õhus.See on keskmise tugevusega anorgaaniline hape, väga söövitav ja võib erodeerida klaasi ja silikaate, tekitades gaasilise ränitetrafluoriidi.Samuti võib see interakteeruda metallide, metallioksiidide ja hüdroksiididega, moodustades erinevaid sooli, kuid mõju ei ole nii intensiivne kui vesinikkloriidhappel.Kuld, plaatina, plii, parafiin ja mõned plastikud sellega ei tööta, seega saab teha anumaid.Gaasivesinikfluoriid on kergesti polümeriseeritav, moodustades (HF) 2 (HF) 3·· iso-ahela molekulid, vedelas olekus polümerisatsiooniaste suureneb.Hoida pliist, vahast või plastikust anumates.See on väga mürgine ja nahaga kokkupuutel haavandub.
TOOTE KASUTAMINE
TÖÖSTUSLIKKUS
Grafiidi töötlemine
Vesinikfluoriidhape on tugev hape, mis võib reageerida peaaegu kõigi grafiidi lisanditega ja grafiidil on hea happekindlus, eriti vastupidav vesinikfluoriidhappele, mis määrab, et grafiiti saab puhastada vesinikfluoriidhappega.Vesinikfluoriidhappe meetodi põhiprotsess on grafiidi ja vesinikfluoriidhappe segu ning vesinikfluoriidhappe ja lisandite reaktsioon teatud aja jooksul lahustuvate ainete või lenduvate ainete saamiseks, pärast pesemist lisandite eemaldamiseks, dehüdratsiooni ja kuivatamist puhastatud grafiidi saamiseks.
Haruldaste muldmetallide pühendatud
Veevaba haruldaste muldmetallide fluoriidi valmistamine toimub hüdraatunud haruldaste muldmetallide fluoriidi sadestamisel vesilahusest, seejärel dehüdratsioonil või haruldaste muldmetallide oksiidide otsesel fluorimisel fluorivate ainetega.Haruldaste muldmetallide fluoriidi lahustuvus on väga väike ja vesinikfluoriidhappe kasutamine võib selle sadestada haruldaste muldmetallide vesinikkloriidhappe, väävelhappe või lämmastikhappe lahusest (sade on hüdraatunud fluoriidi kujul).
Metalli pinnatöötlus
Eemaldage pinnalt hapnikku sisaldavad lisandid. Vesinikfluoriidhape on nõrk hape, mis sarnaneb tugevuselt sipelghappega.Kaubanduslikult saadava vesinikfluoriidhappe üldine kontsentratsioon on 30% kuni 50%.Vesinikfluoriidhappe rooste eemaldamise peamised omadused on järgmised: (1) Võib lahustada räni sisaldavaid ühendeid, samuti on hea lahustuvusega alumiinium, kroom ja muud metallioksiidid, mida kasutatakse tavaliselt valandite, roostevaba terase ja muude toorikute söövitamiseks.(2) Terase ja raua toorikute puhul võib rooste eemaldamiseks kasutada madala kontsentratsiooniga vesinikfluoriidhapet.Vesinikfluoriidhappe kontsentratsiooniga 70% vesilahus omab terast passiveerivat toimet (3) Ligikaudu 10% kontsentratsiooniga vesinikfluoriidhappel on magneesiumi ja selle sulamite nõrk korrosioon, mistõttu kasutatakse seda sageli magneesiumi toorikute söövitamiseks.(4) Pliid vesinikfluoriidhape üldiselt ei korrodeeri;Nikkel on tugev vastupidavus vesinikfluoriidhappe lahustes, mille kontsentratsioon on üle 60%.Vesinikfluoriidhape on väga mürgine ja lenduv, kui seda kasutatakse selleks, et vältida inimeste kokkupuudet vesinikfluoriidhappe vedeliku ja vesinikfluoriidiga, söövituspaak on kõige paremini suletud ja sellel on hea ventilatsiooniseade, fluoritud reovee saab pärast töötlemist välja lasta.
Kvartsliiva peitsimine
See toimib kõige paremini vesinikfluoriidhappega töötlemisel, kuid nõuab suuremat kontsentratsiooni.Naatriumditioniidiga jagamisel võib kasutada madalamas kontsentratsioonis vesinikfluoriidhapet.Kvartsliiva lobrisse segati vastavalt vahekorrale samaaegselt teatud kontsentratsioon vesinikkloriidhapet ja vesinikfluoriidhappe lahust;Samuti võib seda esmalt töödelda vesinikkloriidhappe lahusega, pesta ja seejärel töödelda vesinikfluoriidhappega, töödelda kõrgel temperatuuril 2–3 tundi ning seejärel filtreerida ja puhastada. Kvartsliiva pinnal olevaid lisandeid ja oksiide saab tõhusalt eemaldada ning kvartsliiva puhtust ja kvaliteeti saab parandada.
FOCS Fiber korrosioon
Töötati välja fotoonkristallkiudude (PCF) vesinikfluoriidhappe täitekorrosioon.Vesinikfluoriidhape täideti tõmmatud fotoonkristallkiu õhuauku.Ristlõike struktuuri muutmisega töötati välja spetsiifilise struktuuriga fotooniline kristallkiud, et muuta selle valgusjuhtivust.Tulemused näitavad, et lekkekadu ja hajumise kadu vähenevad fotoonilise kristallkiu õhuaugu korrosiooniastmega, mittelineaarne koefitsient suureneb ilmselgelt, südamikurežiimi efektiivne murdumisnäitaja ja katte ekvivalentne murdumisnäitaja vähenevad vastavalt, ja muutub ka grupikiiruse dispersioon.
ELEKTROONIKAHIND
TPT-LCD ekraani hõrenemine
Fotoresisti ja äärisliimi kaitse all reguleeritakse vesinikfluoriidhappe kontsentratsiooni, lisatakse teatud kogus lämmastikhapet, kontsentreeritud väävelhapet ja vesinikkloriidhapet ning lisatakse ultraheli abitingimused, söövituskiirus on ilmselgelt paranenud.Pinna karedust vähendavad tõhusalt vahelduvad puhastusprotsessid ja valgete pinnakinnituste sadenemine.Lahendage kareda pinna ja valge pinna nakkumise sademe probleem.
